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共用設備

共用設備検索結果

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原子層堆積装置(2)

メーカー名
アルテック(株)/Picosun
型番
SUNALE R-150 ALD
仕様
・原料ソース:3源
・基板サイズ:最大6inchφ
・基板温度:室温~300℃
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

ドライエッチング装置

メーカー名
(株)アルバック
型番
CE300I
仕様
・エッチングガス:Ar、O2、SF6、Cl2、 BCl3、{CF4、CHF3、C4F8のうち一つ}
・圧力:0.07~13.3 Pa
・プラズマ電力:最大1kW
・バイアス電力:最大300W
・基板寸法:最大152 mmφ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

プラズマアッシャー(2)

メーカー名
ヤマト科学(株)
型番
PB-600Z
仕様
・高周波出力:最大600W
・プロセスガス:O2
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

エキシマクリーナー

メーカー名
マルチプライ
型番
EXC-1201
仕様
・光源:172nmエキシマ紫外線ランプ
・ステージ温度:室温~200℃
・試料サイズ:最大φ4インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

RTA(赤外線急速アニール炉:6inch)

メーカー名
(株)アルバック
型番
RTP-6
仕様
・温度範囲:室温~1000℃
・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御
・加熱性能:最大 10℃/s
・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり
・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

RTA(赤外線急速アニール炉:20mm)

メーカー名
(株)アルバック
型番
QHC-P410
仕様
・ランプ出力、本数:2kW×4本
・温度範囲:室温~1200℃(常用)、最高1350℃
・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%)、 Ar、O2 真空置換機能あり
・試料サイズ・個数:20mm□×4個
・試料台材質:SiCコートグラファイト、グラファイト、シリコン
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

シリコン酸化炉

メーカー名
光洋サーモシステム(株)
型番
横型システム MODEL 206A-M100
仕様
・ウェット酸化能力:1プロセスで膜厚2μm以上
・ウェハ処理能力:φ3インチまたはφ6インチウェハを最高11枚
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)

ダイシング装置

メーカー名
ディスコ
型番
DAD-3220
仕様
・ブレード種:Si用及びAl2O3切断用ブレード
・ウェハサイズ:最大φ6インチ
・切断位置決め精度:5μm以内(CCDカメラによる位置指定)
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ)
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