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シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]

メーカー名
住友精密工業
型番
MUC-21 ASE-SRE
仕様
・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力:最大1kW/バイアス出力:最大100W
・プロセスガス SF6,C4F8,Ar,O2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ3インチ
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]

メーカー名
オックスフォード・インストゥルメンツ
型番
PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE
仕様
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力 最大3kW/バイアス出力 最大300W
・プロセスガス:CL2, BCL3, SF6, Ar, N2, O2
・試料ステージ温度:-30~80℃
・試料サイズ:最大φ6インチ(オプションで8インチ可)
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
・温度範囲:室温~1000℃
・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御
・加熱性能:最大 10℃/s
・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり
・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1200℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:Ar, N2, Ar;H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

ダイシングソー [DAD322]

メーカー名
ディスコ
型番
DAD322
仕様
・切削刃 ダイヤモンドブレード
・切削範囲 XY:162mm以下
・スピンドル回転数 3000-40000rpm
・顕微鏡 モニタ上倍率27倍/270倍電動切替
・試料サイズ 最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

ダイシングソー [DAD3220]

メーカー名
ディスコ
型番
DAD-3220
仕様
・ブレード種:Si用及びAl2O3切断用ブレード
・ウェハサイズ:最大φ6インチ
・切断位置決め精度:5μm以内(CCDカメラによる位置指定)
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

並木クリーンルーム

メーカー名
ヤマト科学(株)、ミカサ(株)、オリンパス(株)
型番
  ー
仕様
・スピンコーター(500-8000rpm、プログラム可能)
・ホットプレート(室温~350℃)
・有機/無機ドラフトチャンバー
・金属顕微鏡(対物 x5~x100、明/暗視野、微分干渉像)
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
微細加工ユニット

微細組織三次元マルチスケール解析装置

メーカー名
(株)日立ハイテクサイエンス
型番
SMF-1000
仕様
・トリプルビーム(FIB-SEM-Arイオン)装置
・FIBは最高1nmピッチで制御可能
・加工と観察を繰り返すことで3D像再構築が可能
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置

メーカー名
株式会社日立ハイテク
型番
Ethos NX5000
仕様
1. FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
2. SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
3. 低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA
機器利用単価
大学・公的機関・スタートアップ企業9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

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