マスクレス露光装置 [DL-1500iS2]
![マスクレス露光装置 [DL-1500iS2]](data/facility_item/1770017817_16.jpg)
| 装置ID | NF0284 |
|---|---|
| 装置名称 | マスクレス露光装置 [DL-1500iS2] |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ |
| 型番 | DL-1500iS2 |
| 用途 | マスクレス、描画、リソグラフィ、レーザー、グレースケール、レジスト、光露光（マスクレス、直接描画） Optical exposure (maskless and direct drawing |
| 仕様 | 【性能・仕様】 ・露光方式：DMD ・露光モード：スキャニング露光、ステップアンドリピート露光 【特徴】 ・光源：365nm LED ・照度：10W/cm2 ・位置決め精度：±0.5um以下 ・重ね合わせ精度 ±0.5um以下 ・試料サイズ 最大8インチ角 |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟 1F |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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