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共用設備

原子層堆積装置 [SUNALE R-150]

装置ID	NF0089
装置名称	原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
メーカー名	アルテック(株)/Picosun
型番	SUNALE R-150 ALD
用途	・微細加工（成膜）
仕様	・原料ソース：3源 ・基板サイズ：最大6inchφ ・基板温度：室温～300℃

利用時間単位	時間（1h）
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
料金案内	NOF利用料金表
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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