ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
![ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]](data/facility_item/1562902235_2.jpg)
| 装置ID | NF0021 |
|---|---|
| 装置名称 | ICP-RIE装置 [RV-APS-SE] |
| メーカー名 | 住友精密工業 |
| 型番 | MUC-21 RV-APS-SE |
| 用途 | ・微細加工（エッチング） ・SiC，SiN，SiO2や各種酸化膜の高速エッチング |
| 仕様 | ・プラズマ励起方式 誘導結合型 ・電源出力 ICP出力：最大3kW／バイアス出力：最大1kW ・プロセスガス：CHF3，CF4，C4F8，SF6，Ar，O2，He ・試料ステージ温度 -10～+40度 ・試料サイズ 最大φ4インチ ・その他 SiO2エッチングレート：0.5um/min以上，終点検出機能装備 |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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