ICP-RIE装置 [CE300I]
![ICP-RIE装置 [CE300I]](data/facility_item/1562902285_2.jpg)
| 装置ID | NF0096 |
|---|---|
| 装置名称 | ICP-RIE装置 [CE300I] |
| メーカー名 | (株)アルバック |
| 型番 | CE300I |
| 用途 | ・微細加工（エッチング） |
| 仕様 | ・エッチングガス：Ar、O2、SF6、Cl2、 BCl3、｛CF4、CHF3、C4F8のうち一つ｝ ・圧力：0.07～13.3 Pa ・プラズマ電力：最大1kW ・バイアス電力：最大300W ・基板寸法：最大152 mmφ |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 並木地区 MANA棟 |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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