レーザー描画装置 [DWL66+]
![レーザー描画装置 [DWL66+]](data/facility_item/1638316986_16.jpg)
| 装置ID | NF0010 |
|---|---|
| 装置名称 | レーザー描画装置 [DWL66+] |
| メーカー名 | ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT |
| 型番 | DWL66+ |
| 用途 | ・サブミクロン以上の任意パターン形成 ・3次元パターン造形 |
| 仕様 | ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW) ・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画 ・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm ・最大試料サイズ：8インチ角 ・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画 【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画 |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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