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液中原子間力顕微鏡
- メーカー名
- ブルカージャパン株式会社
- 型番
- NanoWizard 4 XP
- 仕様
- 【AFM測定】
・測定環境：大気中、液中
・走査範囲：水平100µm、垂直15µm
・動作モード：コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率：10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法：明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ：10倍、40倍
【その他】
・温度制御：室温～+60℃まで
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- バイオ分析ユニット
走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ Oxford Instruments
- 型番
- Jupiter XR
- 仕様
- ・測定モード：形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲：90μm
・ステージ可動範囲：200mm角
・試料サイズ：最大φ8インチ
【特徴】・高速スキャン ・広域アクセス ・多様なイメージングモード ・光熱励振タッピング
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
デジタル顕微鏡
- メーカー名
- ハイロックス
- 型番
- RH-8800
- 仕様
- 3次元の光学測定が可能。最大倍率7000倍。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
走査プローブ顕微鏡
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JSPM-5200
- 仕様
- コンタクトモード、AC モード、ノンコンタクトモードが使用可能。真空中の測定も可能。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
高分子相構造解析システム
- メーカー名
- 大塚電子
- 型番
- PP-1000
- 仕様
- 高分子構造を評価可能。サブミクロン-数百ミクロンの構造を評価可能。液体試料も測定可能。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
FE-SEM+EDX [SU8230]
- メーカー名
- (株)日立ハイテクノロジーズ
- 型番
- SU8230
- 仕様
- ・冷陰極電界放出電子銃
・分解能：0.8 nm (15 kV) , 1.1 nm (1 kV)
・付加機能：EDX、反射電子検出器、簡易STEM(明.暗視野)
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
FE-SEM+EDX [S-4800]
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ / 堀場製作所
- 型番
- S4800 / X-MAX 80
- 仕様
- ・加速電圧:0.5～30kV ,
・最大倍率:800k ,
・検出器:SE/BSE
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
FE-SEM+EDX [SU8000]
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ / Bruker
- 型番
- SU8000 / Quantax FQ5060
- 仕様
- ・加速電圧: 0.5～5kV ,
・最大倍率:800k ,
・加速電圧:SE/BSE
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
卓上電子顕微鏡 [TM3000]
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ / Bruker
- 型番
- TM3000
- 仕様
- ・反射電子観察
・最大倍率: 50000
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
ショットキー電界放出型走査電子顕微鏡
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JSM7001F
- 仕様
- ・電界放出形電子銃
・加速電圧：0.5～30 kV
・二次電子像分解能：1.2 nm （加速電圧30 kV）、3.0 nm （加速電圧1 kV）
・倍率：10～1百万倍
・最大試料サイズ：φ100 mm
・反射電子検出器搭載
・EDS付属（JED-2300）
エネルギー分解能：133 eV以下
検出可能元素：B～U
・EBSD：TSL OIM
DigiView 4.0、 Analysis 8.3
・格子歪み測定プログラムCrossCourt Ver.3、Ver.4+
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット