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電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
- メーカー名
- 日本電子
- 型番
- JBX-8100FS
- 仕様
- ・最高加速電圧：200kV
・クロック周波数：125MHz
・12カセット自動搬送
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関15,000円/時間
- 中小企業25,000円/時間
- 大企業50,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- AQ-500
- 仕様
- ・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O, O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [MLA150]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ
- 型番
- MLA150
- 仕様
- 露光方式:DMD
光源:375nm半導体レーザー
解像度:1um
位置決め精度:0.5um以下
重ね合わせ精度:0.5um以下
最大試料サイズ:8インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]
- メーカー名
- 株式会社アルバック
- 型番
- UEP-3000BS
- 仕様
- ・蒸着方式 電子銃型×2式(6連、4連)
・到達真空度 1.0e-5 Pa
・TS間距離 500 - 700mm で可変
・試料サイズ 最大φ3インチ
・その他 水冷式試料ステージ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社
- 型番
- RTP-6
- 仕様
- 加熱方式：放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度：1100℃以下
昇温速度：10℃/秒以下
プロセスガス：O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ：最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
- メーカー名
- サムコ株式会社
- 型番
- PD-220NL
- 仕様
- ・プラズマ方式：平行平板型
・電源出力：30-300W
・原料：TEOS (SiO2)
・成膜温度：400度以下
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
並木クリーンルーム
- メーカー名
- ヤマト科学(株)、ミカサ（株）、オリンパス（株）
- 型番
- ー
- 仕様
- ・スピンコーター（500-8000rpm、プログラム可能）
・ホットプレート（室温～350℃）
・有機/無機ドラフトチャンバー
・金属顕微鏡（対物 x5～x100、明/暗視野、微分干渉像）
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- メーカー名
- 株式会社 エリオニクス
- 型番
- ELS-BODEN
- 仕様
- 加速電圧：100kV
基板サイズ：最大8インチ
フィールドサイズ：1mm
ビーム電流：100pA～10nA
- 機器利用単価
- 大学・公的機関9,000円/時間
- 中小企業15,000円/時間
- 大企業30,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ Oxford Instruments
- 型番
- Jupiter XR
- 仕様
- ・測定モード：形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲：90μm
・ステージ可動範囲：200mm角
・試料サイズ：最大φ8インチ
【特徴】・高速スキャン ・広域アクセス ・多様なイメージングモード ・光熱励振タッピング
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
レーザー描画装置 [DWL66+]
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
- 型番
- DWL66+
- 仕様
- ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画
【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット