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多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
- メーカー名
- リガク
- 型番
- XtaLAB SynergyCustom DW
- 仕様
- 金属・セラミックス・有機物など試料の精密結晶構造解析、電子密度解析が可能
1. X線発生装置：最大出力2.97 kW
2. X線波長：Mo Ka、Cu Ka
3. X線検出器：2次元型半導体式
4. ガス吹付型低温装置（最低：20 K、Heガス使用時）
5. ガス吹付型高温装置（最高：1073 K）
6. XRF用プローブ（最低元素：P）
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
走査型硬X線光電子分光分析装置
- メーカー名
- アルバックファイ
- 型番
- PHI Quantes
- 仕様
- ・硬X線（Cr Ka線）と軟X線（Al Ka線）の単色化２線源を搭載
・ガスクラスターイオン銃(GCIB)
・加熱・冷却・電圧印加機構搭載
・トランスファーベッセル付属
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
電界放出形電子線プローブマイクロアナライザー装置（JXA-8500F）
- メーカー名
- 日本電子(株)
- 型番
- JXA-8500F
- 仕様
- ・電界放出形電子銃
・加速電圧：1～30 kV
・照射電流：10 pA ～500 nA
・測定可能元素：Be～U
・最大試料サイズ：100 x 100 x 50 mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
誘導結合プラズマ発光分析装置（マルチ型）（720 ICP-OES）
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー(株)
- 型番
- 720 ICP-OES
- 仕様
- ・プラズマ観測方向：アキシャル
・分光器：エシェルクロス分散ポリクロメータ
・検出器：CCD検出器
・測定波長範囲：167～785 nm
・プラズマ・イオン種：Ar
・プラズマ周波数：40 MHz
・RF出力：～1.5 kW
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
誘導結合プラズマ発光分析装置（高分解能型）（SPS3520UV-DD）
- メーカー名
- (株)日立ハイテクサイエンス
- 型番
- SPS3520UV-DD
- 仕様
- ・プラズマ観測方向：ラジアル
・分光器：ツェルニ・ターナ型
・検出器：光電子倍増管型
・測定波長範囲：185～850 nm（L分光器）、130～460 nm（第2分光器）
・プラズマ・イオン種：Ar
・プラズマ周波数：27 MHz
・RF出力：～1.6 kW
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
誘導結合プラズマ発光分光分析装置（マルチ型・デュアルビュー）
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー株式会社
- 型番
- Agilent5800
- 仕様
- ・プラズマ観測方向；アキシャル、ラジアルに切替可
・分光器：エシェルクロス分散ポリクロメータ
・検出器：CCD検出器
・測定波長範囲：167～785 nm
・プラズマ・イオン種：Ar
・プラズマ周波数：27 MHz
・RF出力：～1.5 kW
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
微小部蛍光X線分析装置（ORBIS PC）
- メーカー名
- アメテック株式会社
- 型番
- ORBIS PC
- 仕様
- ・X線源：マイクロフォーカス型Rh管球
・X線出力：電圧～50 kV、電流～1 mA
・X線集光部：30 μm径ポリキャピラリー
・X線検出器：液体窒素レス型SSD検出器
・測定可能元素種：Na～U
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
走査型オージェ電子分光分析装置（JAMP-9500F）
- メーカー名
- 日本電子(株)
- 型番
- JAMP-9500F
- 仕様
- ・ショットキー電界放射電子銃
・空間分解能：<8 nm
・加速電圧：0.5～30 kV
・照射電流：0.1～100 nA
・測定元素：Li～U
・最大試料サイズ：14 x 14 x 5 mm
・半球型アナライザー搭載
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
X線光電子分光分析装置（Quantera SXM）
- メーカー名
- アルバック・ファイ(株)
- 型番
- Quantera SXM
- 仕様
- ・走査型単色Al Kα集束X線源
・最小X線ビーム径：<10 µm
・X線源パワー：1～100 W
・エネルギー分解能：<0.5 eV（Ag 3d5/2)
・最大試料サイズ： 60 x 60 x 5 mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
酸素窒素水素分析装置（ONH836）、炭素硫黄分析装置（CS844）
- メーカー名
- LECOジャパン合同会社
- 型番
- ONH836、CS844
- 仕様
- ［酸素･窒素・水素分析装置］
加熱方式：インパルス加熱
検出方式：赤外線検出方式/熱伝導度検出方式
分析範囲：
［酸素］10 ppm～3%
［窒素］10 ppm～3%（試料重量1 g時）
［水素］10 ppm～2500 ppm（試料重量1 g時）
［炭素･硫黄分析装置］
加熱方式：高周波加熱炉
検出方式：赤外線検出方式
分析範囲：
［炭素］10 ppm～6%
［硫黄］10 ppm～6%（試料重量1 g時）
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット