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共用設備検索結果

※装置名をクリックすると詳細情報が閲覧できます

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]

メーカー名
サムコ株式会社
型番
PD-220NL
仕様
・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・試料サイズ:最大φ8インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

液中原子間力顕微鏡

メーカー名
ブルカージャパン株式会社
型番
NanoWizard 4 XP
仕様
【AFM測定】
・測定環境:大気中、液中
・走査範囲:水平100µm、垂直15µm
・動作モード:コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率:10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法:明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ:10倍、40倍
【その他】
・温度制御:室温~+60℃まで
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)

電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]

メーカー名
株式会社 エリオニクス
型番
ELS-BODEN
仕様
加速電圧:100kV
基板サイズ:最大8インチ
フィールドサイズ:1mm
ビーム電流:100pA~10nA
機器利用単価
大学・公的機関9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

2軸傾斜バイアス印加・加熱TEM試料ホルダー

メーカー名
DENSsolutions
型番
Lightning
仕様
・バイアス電圧:最高150V
・加熱:最高1300℃
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

2軸傾斜液体窒素冷却TEM試料ホルダー

メーカー名
Gatan
型番
Gatan 636
仕様
冷却温度:-160℃
傾斜:二軸傾斜
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

多角度光散乱検出器 MALS

メーカー名
ワイアットテクノロジー Wyatt Technology
型番
DAWN 8
仕様
・検出器数:8
・分子量測定範囲:200~300MDa(タンパク)、200~10MDa(直鎖高分子)
・回転半径測定範囲:10~300nm
【特徴】
・標準品を必要としない分子量の絶対測定法。
・バッチ測定、フロー測定の両方に対応。
・超音波洗浄器によりセル内の汚れ付着を防止し、安定したデータ測定を実現。
【備考】特になし
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)

GPC

メーカー名
島津製作所 Shimadzu
型番
Nexera 40
仕様
・送液ユニット:LC-40D (流量範囲0.0001~5mL/min)
・オートサンプラー:SIL-40
・カラムオーブン:CTO-40C (室温-10~100℃)
・PDA検出器:SPD-40 (波長範囲190~700nm)
・RI検出器:Shodex RI-501
【特徴】
・RI検出器は二重温調により安定までの時間が短く、安定性も向上。
・低キャリーオーバーのオートサンプラー搭載。
・PCを介さずにタッチパネルによる簡便な操作も可能。
【備考】特になし
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)

ラマン顕微鏡

メーカー名
レニショー Renishaw
型番
inVia Reflex
仕様
・レーザー波長:532nm及び785nm
・波数分解能:0.3cm-1
・空間分解能:水平0.25µm、垂直1µm
・対物レンズ:5倍、20倍、50倍、63倍(水浸)、100倍
・温度制御:-196~600℃
【特徴】
・ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。
・繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。
・共焦点機構による高い空間分解能。
【備考】特になし

機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)

プレートリーダー

メーカー名
株式会社パーキンエルマージャパン PerkinElmer Japan Co., Ltd.
型番
EnSight
仕様
・光源:UVキセノンフラッシュランプ
・検出器(吸光):フォトダイオード(230-1000nm)
・検出器(蛍光):光電子増倍管(230-850nm)
・波長選択:モノクロメーター
・プレートフォーマット:6ウェル、12ウェル、24ウェル、48ウェル、96ウェル、384ウェル

【特徴】・モノクロメーターによる任意波長の測定が可能 ・多様な測定モード(吸光/蛍光/発光/時間分解蛍光) ・温度調節機能やプレート撹拌機能を搭載
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)
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