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触針式プロファイラ Stylus Profiler
- メーカー名
- ブルカージャパン Bruker
- 型番
- Dektak XT-A
- 仕様
- ・分解能：1Å（6.5μmレンジ）
・走査距離：55mm
・触圧範囲：0.03-15mg
・試料サイズ：最大φ8インチ
・その他：自動ステージ、3Dマップ・粗さ・ストレス測定
等
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- ナノテクノロジー融合ステーション （千現ファウンドリ/微細加工プラットフォーム）
水蒸気プラズマ洗浄装置
- メーカー名
- サムコ株式会社
- 型番
- AQ-500
- 仕様
- ・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
・水蒸気プラズマによる還元、洗浄、樹脂接合、親水化処理が可能
・酸素ガスを添加することにより、還元雰囲気でのアッシングが可能
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- ナノテクノロジー融合ステーション （千現ファウンドリ/微細加工プラットフォーム）
NMR
- メーカー名
- 日本電子(株)
- 型番
- ECS-400
- 仕様
- 【遠隔利用可】
・共鳴周波数400MHz
・溶液サンプル専用
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- ナノテクノロジー融合ステーション （ナノバイオ/分子・物質合成プラットフォーム）
高輝度・高感度型粉末X線回折装置
- メーカー名
- (株)リガク
- 型番
- SmartLab (9 kW)
- 仕様
- ・高輝度X線発生装置：最大出力9 kW
・X線波長：Cu Kα
・X線検出器：ハイブリッドピクセルアレイ検出器（HyPix-3000）
・試料部：試料水平型
・低温装置：-170 ℃～600 ℃（真空、N2）
・高温装置：室温～1000 ℃（真空）
・極点図測定
・残留応力測定
・引張応力下でのX線回折測定（最大荷重5 N）
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
簡易型粉末X線回折装置
- メーカー名
- (株)リガク
- 型番
- MiniFlex600
- 仕様
- ・X線発生装置：最大出力0.6 kW
・X線波長：Cu Kα
・X線検出器：1次元型半導体式
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
簡易型粉末回折計-Cr
- メーカー名
- (株)リガク
- 型番
- MiniFlex600-Cr
- 仕様
- ・X線発生装置：最大出力0.6 kW
・X線波長：Cr Kα
・試料部：試料水平型
・X線検出器：1次元型半導体式
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
電界放出形電子線プローブマイクロアナライザー装置
- メーカー名
- 日本電子(株)
- 型番
- JXA-8500F
- 仕様
- ・電界放出形電子銃
・加速電圧：1～30 kV
・照射電流：10 pA ～500 nA
・測定可能元素：Be～U
・最大試料サイズ：100 x 100 x 50 mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
電子線プローブマイクロアナライザー装置
- メーカー名
- 日本電子(株)
- 型番
- JXA-8900RL
- 仕様
- ・Wフィラメント電子銃
・加速電圧：0.2～40 kV
・照射電流：1 pA ～10 µA
・波長分散型X線分光器：5基搭載
・測定可能元素：Be～U
・最大試料サイズ：100 x 100 x 50 mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
誘導結合プラズマ発光分析装置（マルチ型）
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)
- 型番
- iCAP6300
- 仕様
- ・プラズマ観測方向：アキシャル、ラジアル
・分光器：エシェル型
・検出器：CID半導体型
・測定波長範囲：167～847 nm
・プラズマ・イオン種：Ar
・プラズマ周波数：27.12 MHz
・RF出力：～1.5 kW
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション
誘導結合プラズマ発光(分光)分析装置(マルチ型）
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー(株)
- 型番
- 720 ICP-OES
- 仕様
- ・プラズマ観測方向：アキシャル
・分光器：エシェルクロス分散ポリクロメータ
・検出器：CCD検出器
・測定波長範囲：167～785 nm
・プラズマ・イオン種：Ar
・プラズマ周波数：40 MHz
・RF出力：～1.5 kW
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 材料分析ステーション