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電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
- メーカー名
- アールデック(R-DEC)
- 型番
- ADS-E810
- 仕様
- 【性能・仕様】
・蒸着方式：電子銃型
・ターゲット：Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度：10-5 Pa
・ＴＳ間距離：500 mm
・最大試料サイズ：φ8inch
・その他：ロードロック式、水冷式試料ステージ
【特徴】
・ロードロックによる迅速なプロセス
・最大10種類の材料を積層可能
・レシピによる多層成膜の自動実行
・基板冷却機構
・反射電子トラップ機構
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス(SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- 【性能・仕様】
・電源：DC×２、RF×１
・電源出力：500W（最大）
・カソード：φ3インチ×4式
・基板サイズ：最大8inchφ
・プロセスガス：Ar、O2、N2
・基板加熱：設定300℃
・逆スパッタ可
【特徴】
・DC及びRFスパッタ電源を備えていることにより、多様な材料に対応
・O2及びN2ガスの導入による反応性スパッタが可能
・異種ターゲットの同時使用による混合材料の堆積が可能
・レシピによる多層成膜の自動実行
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクレス露光装置 [DL-1000]
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ
- 型番
- DL-1000
- 仕様
- ・光源 405nm半導体レーザー（h線）
・照度 300mW/cm2
・位置決め精度 ±1um以下
・重ね合わせ精度 ±1um以下
・試料サイズ 最大4インチ角
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
マスクアライナー [MA-6]
- メーカー名
- ズース・マイクロテック
- 型番
- MA-6
- 仕様
- ・光源：i線、h線、g線
・マスク寸法：102mm角～152mm角
・基板寸法：76mm径以下
・露光最小線幅：0.75µm
・位置決め精度：0.5µm(表面側)
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- AQ-500
- 仕様
- ・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O, O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- ・電源：DC×2、RF×1
・基板サイズ：最大6inchφ
・プロセスガス：Ar、O2、N2
・基板加熱：設定300℃
・逆スパッタ可
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
- メーカー名
- エイコーエンジニアリング
- 型番
- ー
- 仕様
- ・蒸発源：材料ハース10個
・T-S距離：700mm
・基板サイズ：最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
- メーカー名
- アルテック(株)/Picosun
- 型番
- SUNALE R-150 ALD
- 仕様
- ・原料ソース：3源
・基板サイズ：最大6inchφ
・基板温度：室温～300℃
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- RIE-200NL
- 仕様
- ・プラズマ励起方式 平行平板型
・電源出力 最大300W
・プロセスガス CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
- メーカー名
- サムコ
- 型番
- RIE-101iPH
- 仕様
- ・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力：最大1kW／バイアス出力：最大300W
・プロセスガス Cl2，BCl3，Ar，O2，N2
・試料ステージ温度 200度以下
・試料サイズ 最大φ3インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
"並木（つくば）"で検索した結果 49件