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共用設備

共用設備検索結果

※装置名をクリックすると詳細情報が閲覧できます

電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]

メーカー名
株式会社アルバック
型番
UEP-3000BS
仕様
・蒸着方式 電子銃型×2式(6連、4連)
・到達真空度 1.0e-5 Pa
・TS間距離 500 - 700mm で可変
・試料サイズ 最大φ3インチ
・その他 水冷式試料ステージ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]

メーカー名
サムコ株式会社
型番
PD-220NL
仕様
・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・試料サイズ:最大φ8インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

並木クリーンルーム

メーカー名
ヤマト科学(株)、ミカサ(株)、オリンパス(株)
型番
  ー
仕様
・スピンコーター(500-8000rpm、プログラム可能)
・ホットプレート(室温~350℃)
・有機/無機ドラフトチャンバー
・金属顕微鏡(対物 x5~x100、明/暗視野、微分干渉像)
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]

メーカー名
株式会社 エリオニクス
型番
ELS-BODEN
仕様
加速電圧:100kV
基板サイズ:最大8インチ
フィールドサイズ:1mm
ビーム電流:100pA~10nA
機器利用単価
大学・公的機関9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]

メーカー名
オックスフォード・インストゥルメンツ Oxford Instruments
型番
Jupiter XR
仕様
・測定モード:形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲:90μm
・ステージ可動範囲:200mm角
・試料サイズ:最大φ8インチ

【特徴】・高速スキャン ・広域アクセス ・多様なイメージングモード ・光熱励振タッピング
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

レーザー描画装置 [DWL66+]

メーカー名
ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
型番
DWL66+
仕様
・光源:375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード:ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード:0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ:8インチ角
・その他:グレースケール描画、重ね合わせ描画

【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

触針式プロファイラー [Dektak XT-A]

メーカー名
ブルカージャパン Bruker
型番
Dektak XT-A
仕様
・分解能:1Å(6.5μmレンジ)
・走査距離:55mm
・触圧範囲:0.03-15mg
・試料サイズ:最大φ8インチ
・その他:自動ステージ、3Dマップ・粗さ・ストレス測定
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500]

メーカー名
サムコ株式会社
型番
AQ-500
仕様
・高周波出力:50-250W
・反応ガス:H2O,O2
・自動運転プログラム
・試料サイズ:最大φ8インチ
・水蒸気プラズマによる還元、洗浄、樹脂接合、親水化処理が可能
・酸素ガスを添加することにより、還元雰囲気でのアッシングが可能
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

XRD(粉末)

メーカー名
(株)リガク
型番
RINT-Ultima III
仕様
・粉末測定
・フォーカスビーム、パラレルビーム
・キャピラリーホルダー
・高温チャンバー
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
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