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共用設備

共用設備検索結果

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卓上SEM(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
株式会社 日立ハイテク
型番
TM4000PlusII
仕様
1. 最大倍率:10万倍
2. 加速電圧 : 5 ~ 20 kV
3. 検出器 : 二次電子、反射電子
4. 真空モード:標準、帯電軽減
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置

メーカー名
株式会社日立ハイテク
型番
Ethos NX5000
仕様
1. FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
2. SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
3. 低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA
機器利用単価
大学・公的機関9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

精密イオン研磨装置(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
ガタン
型番
695PIPS II
仕様
・イオンビームエネルギー: 0.1~8 keV
・試料冷却が可能
・観察用デジタルズームカメラ付属
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

マルチコーター(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
真空デバイス
型番
VES-30T
仕様
・蒸着
・イオンスパッタ
・親水処理
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

ディンプルグラインダ(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
ガタン
型番
656 DimpleGrinder
仕様
・研磨ホイール経: 15 mm
・研磨荷重: 0~40 g
・自動停止機構付属
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

卓上研磨機(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
マルトー
型番
ML-180 DoctorLap
仕様
・研磨回転数: 50~500 rpm
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

小型精密切断器(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
TECHNOORG-LINDA
型番
MS2 MICROSAW
仕様
・50mmダイヤモンド回転刃
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

2軸傾斜バイアス印加・加熱TEM試料ホルダー

メーカー名
DENSsolutions
型番
Lightning
仕様
・バイアス電圧:最高150V
・加熱:最高1300℃
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

2軸傾斜液体窒素冷却TEM試料ホルダー

メーカー名
Gatan
型番
Gatan 636
仕様
冷却温度:-160℃
傾斜:二軸傾斜
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

FIB/SEM精密微細加工装置

メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社 FEI Company Japan Ltd.
型番
Helios 650
仕様
1. SIM像分解能5nm(@30kV)、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm(@1kV)、最大電流26nA
3. E-beam: 350V~30 kV、I-Beam: : 500V~30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°~+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム

【特徴】1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト(マイクロサンプリング)可能,【備考】機器利用は利用前に講習が必要
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット
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