1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備

共用設備検索結果

※装置名をクリックすると詳細情報が閲覧できます

電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]

メーカー名
株式会社アルバック
型番
UEP-3000BS
仕様
・蒸着方式 電子銃型×2式(6連、4連)
・到達真空度 1.0e-5 Pa
・TS間距離 500 - 700mm で可変
・試料サイズ 最大φ3インチ
・その他 水冷式試料ステージ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

並木クリーンルーム

メーカー名
ヤマト科学(株)、ミカサ(株)、オリンパス(株)
型番
  ー
仕様
・スピンコーター(500-8000rpm、プログラム可能)
・ホットプレート(室温~350℃)
・有機/無機ドラフトチャンバー
・金属顕微鏡(対物 x5~x100、明/暗視野、微分干渉像)
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

卓上型粉末回折計-Cu_N2

メーカー名
リガク
型番
MiniFlex600-Cu_N2
仕様
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cu Kα
・試料部:試料水平型
・X線検出器:1次元型半導体式
・6連自動試料交換機
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
材料分析ステーション

四重極型ICP質量分析装置

メーカー名
アジレント・テクノロジー株式会社
型番
Agilent7850
仕様
1. 高周波電源部
 周波数:27 MHz 出力:1600 W
2. 試料導入部
 マスフローコントロールガス制御
 高マトリックス対応スプレーチャンバー
 ペリスタポンプ(3連)
3. インターフェース部
 コーン:ニッケル、白金
4. 真空システム
 3段差動排気
5. コリジョンリアクションセル
 Heガス対応
6. 質量分析計
 四重極型
 分解能:0.3-1.0 u
 質量分析範囲:2~260 u
7. 検出部
 90度偏向型二次電子増倍管
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
材料分析ステーション

電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]

メーカー名
株式会社 エリオニクス
型番
ELS-BODEN
仕様
加速電圧:100kV
基板サイズ:最大8インチ
フィールドサイズ:1mm
ビーム電流:100pA~10nA
機器利用単価
大学・公的機関9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

多角度光散乱検出器 MALS

メーカー名
ワイアットテクノロジー Wyatt Technology
型番
DAWN 8
仕様
・検出器数:8
・分子量測定範囲:200~300MDa(タンパク)、200~10MDa(直鎖高分子)
・回転半径測定範囲:10~300nm
【特徴】
・標準品を必要としない分子量の絶対測定法。
・バッチ測定、フロー測定の両方に対応。
・超音波洗浄器によりセル内の汚れ付着を防止し、安定したデータ測定を実現。
【備考】特になし
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)

FIB/SEM精密微細加工装置

メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社 FEI Company Japan Ltd.
型番
Helios 650
仕様
1. SIM像分解能5nm(@30kV)、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm(@1kV)、最大電流26nA
3. E-beam: 350V~30 kV、I-Beam: : 500V~30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°~+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム

【特徴】1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト(マイクロサンプリング)可能,【備考】機器利用は利用前に講習が必要
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

走査プローブ顕微鏡

メーカー名
日本電子株式会社
型番
JSPM-5200
仕様
コンタクトモード、AC モード、ノンコンタクトモードが使用可能。真空中の測定も可能。
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
材料分析ステーション

800MHzワイドボア固体高分解能NMRシステム

メーカー名
(株)JEOL RESONANCE
型番
ECZ800
仕様
・磁場:18.79 T (固定) (1H: 800 MHz相当)
・ボア径:89 mm (室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度:2.6×10⁻⁶/20 mm DSV
・プローブ:HX (1 mmφ/70 kHz, 2 mmφ/40 kHz, 3.2 mmφ/22 kHz)
      クライオコイル (Optional)
・CP/MAS, MQMASなど

機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
NMRステーション

200kV透過電子顕微鏡(Talos F200X G2)

メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社
型番
Talos F200X G2
仕様
加速電圧80、200kV
TEM粒子分解能0.25nm
HAADFSTEM分解能0.16nm
大面積EDS(SuperX)
3次元トモグラフィー
CMOSカメラ
分割型検出器
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション
スマートフォン用ページで見る