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共用設備

共用設備検索結果

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卓上型粉末回折計-Cu_N2

メーカー名
リガク
型番
MiniFlex600-Cu_N2
仕様
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cu Ka
・試料部:試料水平型
・X線検出器:1次元型半導体式
・6連自動試料交換機
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

四重極型ICP質量分析装置

メーカー名
アジレント・テクノロジー株式会社
型番
Agilent7850
仕様
1. 高周波電源部
 周波数:27 MHz 出力:1600 W
2. 試料導入部
 マスフローコントロールガス制御
 高マトリックス対応スプレーチャンバー
 ペリスタポンプ(3連)
3. インターフェース部
 コーン:ニッケル、白金
4. 真空システム
 3段差動排気
5. コリジョンリアクションセル
 Heガス対応
6. 質量分析計
 四重極型
 分解能:0.3-1.0 u
 質量分析範囲:2~260 u
7. 検出部
 90度偏向型二次電子増倍管
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

FIB/SEM精密微細加工装置

メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社 FEI Company Japan Ltd.
型番
Helios 650
仕様
1. SIM像分解能5nm(@30kV)、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm(@1kV)、最大電流26nA
3. E-beam: 350V~30 kV、I-Beam: : 500V~30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°~+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム

【特徴】1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト(マイクロサンプリング)可能,【備考】機器利用は利用前に講習が必要
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット

フーリエ変換赤外分光計

メーカー名
日本分光
型番
FT/IR-6700
仕様
測定波数範囲:7800~350cm-1、最高分解能:0.25cm-1、ATR、RAS付属
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

デジタル顕微鏡

メーカー名
ハイロックス
型番
RH-8800
仕様
3次元の光学測定が可能。最大倍率7000倍。
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

走査プローブ顕微鏡

メーカー名
日本電子株式会社
型番
JSPM-5200
仕様
コンタクトモード、AC モード、ノンコンタクトモードが使用可能。真空中の測定も可能。
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

高感度・走査型示差熱量計

メーカー名
ネッチ
型番
DSC200F
仕様
温度範囲(-150-600℃)で試料の熱分析が可能
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

高分子相構造解析システム

メーカー名
大塚電子
型番
PP-1000
仕様
高分子構造を評価可能。サブミクロン-数百ミクロンの構造を評価可能。液体試料も測定可能。
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
表面・バルク分析ユニット

800MHzワイドボア固体高分解能NMRシステム

メーカー名
(株)JEOL RESONANCE
型番
ECZ800
仕様
・磁場:18.79 T (固定) (1H: 800 MHz相当)
・ボア径:89 mm (室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度:2.6×10⁻⁶/20 mm DSV
・プローブ:HX (1 mmφ/70 kHz, 2 mmφ/40 kHz, 3.2 mmφ/22 kHz)
      クライオコイル (Optional)
・CP/MAS, MQMASなど

機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
強磁場計測ユニット

200kV透過電子顕微鏡(Talos F200X G2)

メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社
型番
Talos F200X G2
仕様
加速電圧80、200kV
TEM粒子分解能0.25nm
HAADFSTEM分解能0.16nm
大面積EDS(SuperX)
3次元トモグラフィー
CMOSカメラ
分割型検出器
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡ユニット
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