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卓上型粉末回折計-Cu_N2
- メーカー名
- リガク
- 型番
- MiniFlex600-Cu_N2
- 仕様
- ・X線発生装置：最大出力0.6 kW
・X線波長：Cu Ka
・試料部：試料水平型
・X線検出器：1次元型半導体式
・６連自動試料交換機
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
四重極型ICP質量分析装置
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー株式会社
- 型番
- Agilent7850
- 仕様
- 1. 高周波電源部
周波数：27 MHz 出力：1600 W
2. 試料導入部
マスフローコントロールガス制御
高マトリックス対応スプレーチャンバー
ペリスタポンプ（3連）
3. インターフェース部
コーン：ニッケル、白金
4. 真空システム
3段差動排気
5. コリジョンリアクションセル
Heガス対応
6. 質量分析計
四重極型
分解能：0.3-1.0 u
質量分析範囲：2～260 u
7. 検出部
90度偏向型二次電子増倍管
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
FIB/SEM精密微細加工装置
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ株式会社 FEI Company Japan Ltd.
- 型番
- Helios 650
- 仕様
- 1. SIM像分解能5nm（@30kV）、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm（@1kV）、最大電流26nA
3. E-beam: 350V～30 kV、I-Beam: : 500V～30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°～+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム
【特徴】1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト（マイクロサンプリング)可能,【備考】機器利用は利用前に講習が必要
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット
フーリエ変換赤外分光計
- メーカー名
- 日本分光
- 型番
- FT/IR-6700
- 仕様
- 測定波数範囲:7800～350cm-1、最高分解能:0.25cm-1、ATR、RAS付属
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
デジタル顕微鏡
- メーカー名
- ハイロックス
- 型番
- RH-8800
- 仕様
- 3次元の光学測定が可能。最大倍率7000倍。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
走査プローブ顕微鏡
- メーカー名
- 日本電子株式会社
- 型番
- JSPM-5200
- 仕様
- コンタクトモード、AC モード、ノンコンタクトモードが使用可能。真空中の測定も可能。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
高感度・走査型示差熱量計
- メーカー名
- ネッチ
- 型番
- DSC200F
- 仕様
- 温度範囲（-150-600℃）で試料の熱分析が可能
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
高分子相構造解析システム
- メーカー名
- 大塚電子
- 型番
- PP-1000
- 仕様
- 高分子構造を評価可能。サブミクロン-数百ミクロンの構造を評価可能。液体試料も測定可能。
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 表面・バルク分析ユニット
800MHzワイドボア固体高分解能NMRシステム
- メーカー名
- (株)JEOL RESONANCE
- 型番
- ECZ800
- 仕様
- ・磁場：18.79 T (固定) (1H: 800 MHz相当)
・ボア径：89 mm (室温)
・永久電流モードで常時運転
・磁場均一度：2.6×10⁻⁶/20 mm DSV
・プローブ：HX (1 mmφ/70 kHz, 2 mmφ/40 kHz, 3.2 mmφ/22 kHz)
クライオコイル (Optional)
・CP/MAS, MQMASなど
- 機器利用単価
- 大学・公的機関3,000円/時間
- 中小企業5,000円/時間
- 大企業10,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 強磁場計測ユニット
200kV透過電子顕微鏡（Talos F200X G2）
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ株式会社
- 型番
- Talos F200X G2
- 仕様
- 加速電圧80、200kV
TEM粒子分解能0.25nm
HAADFSTEM分解能0.16nm
大面積EDS（SuperX）
3次元トモグラフィー
CMOSカメラ
分割型検出器
- 機器利用単価
- 大学・公的機関6,000円/時間
- 中小企業10,000円/時間
- 大企業20,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット