共用設備検索結果
さらに絞り込む
※装置名をクリックすると詳細情報が閲覧できます
オスミウムコーター（TEM試料作製装置群）
- メーカー名
- 株式会社真空デバイス
- 型番
- HPC-1SW
- 仕様
- ・蒸着方式: 2極DCグロー放電スパッタ
・ターゲット: オスミウム
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 電子顕微鏡ユニット
電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
- メーカー名
- アールデック(R-DEC)
- 型番
- ADS-E810
- 仕様
- 【性能・仕様】
・蒸着方式：電子銃型
・ターゲット：Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度：10-5 Pa
・ＴＳ間距離：500 mm
・最大試料サイズ：φ8inch
・その他：ロードロック式、水冷式試料ステージ
【特徴】
・ロードロックによる迅速なプロセス
・最大10種類の材料を積層可能
・レシピによる多層成膜の自動実行
・基板冷却機構
・反射電子トラップ機構
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス(SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様
- 【性能・仕様】
・電源：DC×２、RF×１
・電源出力：500W（最大）
・カソード：φ3インチ×4式
・基板サイズ：最大8inchφ
・プロセスガス：Ar、O2、N2
・基板加熱：設定300℃
・逆スパッタ可
【特徴】
・DC及びRFスパッタ電源を備えていることにより、多様な材料に対応
・O2及びN2ガスの導入による反応性スパッタが可能
・異種ターゲットの同時使用による混合材料の堆積が可能
・レシピによる多層成膜の自動実行
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
LC-MS (OE480)
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック
- 型番
- Orbitrap Exploris 480
- 仕様
- ・ 質量範囲：40～6,000 m/z
・ 質量分解能：480,000 at 200 m/z
・ 質量精度：3 ppm以下(外標準法)、1 ppm以下(内標準法)
・ スキャンモード：Full Scan、t-SIM、DDA TopN、DDA TopTime、DIA、BoxCar、t-MS2 (PRM)、AIF
・ 送液範囲：1 nL/min～100 µL/ min
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,900円/時間
- 中小企業16,500円/時間
- 大企業33,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- バイオ分析ユニット
分光エリプソメーター [UNECS-2000A]
- メーカー名
- アルバック
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様
- ・光源：ハロゲンランプ
・波長範囲：530～750 nm
・スポット径：1mm
・入射角：70°固定
・試料サイズ：最大φ200mm
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業3,300円/時間
- 中小企業5,500円/時間
- 大企業11,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #2]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:Cl2, SiCl4, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica #1]
- メーカー名
- 住友精密工業(株)
- 型番
- Spica
- 仕様
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
プロセスガス:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃～30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業6,600円/時間
- 中小企業11,000円/時間
- 大企業22,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS]
- メーカー名
- 日本電子
- 型番
- JBX-8100FS
- 仕様
- ・最高加速電圧：200kV
・クロック周波数：125MHz
・12カセット自動搬送
・試料サイズ：最大φ8インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業16,500円/時間
- 中小企業27,500円/時間
- 大企業55,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
- メーカー名
- (株)エリオニクス
- 型番
- ELS-F125
- 仕様
- ・電子銃 ZrO/W熱電界放射型
・最大加速電圧 125kV (25kVステップで可変)
・フィールドつなぎ精度：25nm以下 (500um フィールド)
・重ね合わせ精度：30nm以下 (500um フィールド)
・試料サイズ 最大φ6インチ
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業16,500円/時間
- 中小企業27,500円/時間
- 大企業55,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
- メーカー名
- 株式会社 エリオニクス
- 型番
- ELS-BODEN
- 仕様
- 加速電圧：100kV
基板サイズ：最大8インチ
フィールドサイズ：1mm
ビーム電流：100pA～10nA
- 機器利用単価
- 大学・公的機関・スタートアップ企業9,900円/時間
- 中小企業16,500円/時間
- 大企業33,000円/時間
- 問い合わせ先部署
- 微細加工ユニット
"利用可能"で検索した結果 143件