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共用設備検索結果

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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]

メーカー名
アドバンス理工株式会社
型番
RTP-6
仕様
加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式
プロセス温度:1100℃以下
昇温速度:10℃/秒以下
プロセスガス:O2, N2, Ar+H2(3%)
試料サイズ:最大φ6インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]

メーカー名
サムコ株式会社
型番
PD-220NL
仕様
・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・試料サイズ:最大φ8インチ
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置

メーカー名
株式会社日立ハイテク
型番
Ethos NX5000
仕様
1. FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
2. SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
3. 低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA
機器利用単価
大学・公的機関9,000円/時間
中小企業15,000円/時間
大企業30,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

走査型硬X線光電子分光分析装置

メーカー名
アルバックファイ
型番
PHI Quantes
仕様
・硬X線(Cr Kα線)と軟X線(Al Kα線)の単色化2線源を搭載
・ガスクラスターイオン銃(GCIB)
・加熱・冷却・電圧印加機構搭載
・トランスファーベッセル付属
機器利用単価
大学・公的機関6,000円/時間
中小企業10,000円/時間
大企業20,000円/時間
問い合わせ先部署
材料分析ステーション

精密イオン研磨装置(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
ガタン
型番
695PIPS II
仕様
・イオンビームエネルギー: 0.1~8 keV
・試料冷却が可能
・観察用デジタルズームカメラ付属
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

マルチコーター(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
真空デバイス
型番
VES-30T
仕様
・蒸着
・イオンスパッタ
・親水処理
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

ホットプレート(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
アズワン
型番
HP-1SAハイパワーデジタルホットプレート
仕様
・デジタルホットプレート
・最高温度400℃
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

ディンプルグラインダ(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
ガタン
型番
656 DimpleGrinder
仕様
・研磨ホイール経: 15 mm
・研磨荷重: 0~40 g
・自動停止機構付属
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

標準形デジタルインジケータ(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
ミツトヨ
型番
543-175 デジタルインジケータ
仕様
・ゼロセット機能
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション

卓上研磨機(セラミックス試料作製装置群)

メーカー名
マルトー
型番
ML-180 DoctorLap
仕様
・研磨回転数: 50~500 rpm
機器利用単価
大学・公的機関3,000円/時間
中小企業5,000円/時間
大企業10,000円/時間
問い合わせ先部署
電子顕微鏡解析ステーション
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