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マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]

マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
装置名称 マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
メーカー名 ナノシステムソリューションズ
型番 DL-1000 / NC2P
用途 ・微細加工(リソグラフィ)
・高速高精度マスクレスパターニング
仕様 ・光源 405nm LD(h線)
・照度:10W/cm2
・位置決め精度:500nm以下
・重ね合わせ精度:500nm以下
・試料サイズ 最大8インチ角
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関6,000円/時間
  • 中小企業10,000円/時間
  • 大企業20,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟 102号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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