マスクレス露光装置 [DL-1000]
![マスクレス露光装置 [DL-1000]](data/facility_item/1569924831_5.jpg)
| 装置ID | NF0092 |
|---|---|
| 装置名称 | マスクレス露光装置 [DL-1000] |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ |
| 型番 | DL-1000 |
| 用途 | ・微細加工（リソグラフィ） ・マスクレスマイクロパターニング |
| 仕様 | ・光源 405nm半導体レーザー（h線） ・照度 300mW/cm2 ・位置決め精度 ±1um以下 ・重ね合わせ精度 ±1um以下 ・試料サイズ 最大4インチ角 |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 利用可能形態 |
|
| 料金案内 | NOF利用料金表 |
| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 並木地区 MANA棟 |
※予約状況につきましては、お問い合わせください。
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