マスクレス露光装置 [DL-1000]

装置名称	マスクレス露光装置 [DL-1000]
メーカー名	ナノシステムソリューションズ
型番	DL-1000
用途	・微細加工（リソグラフィ）・マスクレスマイクロパターニング
仕様	・光源　405nm半導体レーザー（h線）・照度　300mW/cm² ・位置決め精度　±1um以下・重ね合わせ精度　±1um以下・試料サイズ　最大4インチ角

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構