スパッタ装置 [JSP-8000]
装置名称 | スパッタ装置 [JSP-8000] |
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メーカー名 | (株)アルバック |
型番 | J sputter |
用途 | ・微細加工(成膜) ・金属・絶縁薄膜形成 |
仕様 | ・スパッタ方式 DC/RFマグネトロンスパッタ,反応性/3元同時/逆スパッタ可能 ・電源出力 最大500W ・カソード φ4インチ×4式 ・プロセスガス Ar,O2,N2 ・試料サイズ 最大φ6インチ:試料ステージ水冷/加熱可 (最大300度) |
利用時間単位 | 時間(1h) |
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機器利用料金(税抜金額) |
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利用可能形態 |
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マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟1F |
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