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共用設備

原子層堆積装置 [SUNALE R-150]

原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
装置名称 原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
メーカー名 アルテック(株)/Picosun
型番 SUNALE R-150 ALD
用途 ・微細加工(成膜)
仕様 ・原料ソース:3源
・基板サイズ:最大6inchφ
・基板温度:室温~300℃
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用 ×
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 並木地区 MANA棟 503号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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