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共用設備

CCP-RIE装置 [RIE-200NL]

CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
装置名称 CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
メーカー名 サムコ
型番 RIE-200NL
用途 ・微細加工(エッチング)
・多種材料のドライエッチング
仕様 ・プラズマ励起方式 平行平板型
・電源出力 最大300W
・プロセスガス CHF3,CF4,SF6,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度 室温
・試料サイズ 最大φ8インチ
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟 102号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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