CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
![CCP-RIE装置 [RIE-200NL]](data/facility_item/1562902120_2.jpg)
| 装置名称 | CCP-RIE装置 [RIE-200NL] |
|---|---|
| メーカー名 | サムコ |
| 型番 | RIE-200NL |
| 用途 | ・微細加工（エッチング） ・多種材料のドライエッチング |
| 仕様 | ・プラズマ励起方式 平行平板型 ・電源出力 最大300W ・プロセスガス CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2 ・試料ステージ温度 室温 ・試料サイズ 最大φ8インチ |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 機器利用料金（税抜金額） |
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| 利用可能形態 |
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| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 並⽊地区 MANA 棟（506 室） |
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