1. ホーム>
  2. 共用設備検索>
  3. ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]

共用設備

ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]

ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
装置名称 ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
メーカー名 住友精密工業
型番 MUC-21 RV-APS-SE
用途 ・微細加工(エッチング)
・SiC,SiN,SiO2や各種酸化膜の高速エッチング
仕様 ・プラズマ励起方式 誘導結合型
・電源出力 ICP出力:最大3kW/バイアス出力:最大1kW
・プロセスガス:CHF3,CF4,C4F8,SF6,Ar,O2,He
・試料ステージ温度 -10~+40度 
・試料サイズ 最大φ6インチ
・その他 SiO2エッチングレート:0.5um/min以上,終点検出機能装備
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関6,000円/時間
  • 中小企業10,000円/時間
  • 大企業20,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟 102号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

スマートフォン用ページで見る