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共用設備

ICP-RIE装置 [CE300I]

ICP-RIE装置 [CE300I]
装置名称 ICP-RIE装置 [CE300I]
メーカー名 (株)アルバック
型番 CE300I
用途 ・微細加工(エッチング)
仕様 ・エッチングガス:Ar、O2、SF6、Cl2、 BCl3、{CF4、CHF3、C4F8のうち一つ}
・圧力:0.07~13.3 Pa
・プラズマ電力:最大1kW
・バイアス電力:最大300W
・基板寸法:最大152 mmφ
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用 ×
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 並木地区 MANA棟 503号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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