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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
装置名称 赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
メーカー名 (株)アルバック
型番 RTP-6
用途 ・微細加工(熱処理)
仕様 ・温度範囲:室温~1000℃
・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御
・加熱性能:最大 10℃/s
・プロセスガス:N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり
・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用 ×
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 並木地区 MANA棟 502号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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