赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]

装置名称	赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
メーカー名	アドバンス理工株式会社
型番	RTP-6
用途	・微細加工（熱処理）
仕様	・温度範囲：室温～1000℃ ・加熱方式：赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御・加熱性能：最大 10℃/s ・プロセスガス：N2, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり・試料台材質・サイズ：SiCコートグラファイト、6インチφ

利用時間単位	時間（1h）
機器利用料金（税抜金額）	大学・公的機関・スタートアップ企業 3,300円/時間中小企業 5,500円/時間大企業 11,000円/時間
利用可能形態	機器利用：○ 技術指導：○ 技術代行：○
マテリアル先端リサーチインフラの利用	○
問い合わせ先部署	微細加工ユニット
設置場所	並木地区 MANA棟 502号室

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国立研究開発法人 物質・材料研究機構