原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
![原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]](data/facility_item/1585128834_15.jpg)
| 装置名称 | 原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE] |
|---|---|
| メーカー名 | オックスフォード・インストゥルメンツ |
| 型番 | PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE |
| 用途 | 1. 半導体材料等の原子層エッチング 2. 金属・半導体材料等のICPエッチング |
| 仕様 | ・プラズマ励起方式：誘導結合型 ・電源出力：ICP出力 最大3kW／バイアス出力 最大300W ・プロセスガス：CL2, BCL3, SF6, Ar, N2, O2 ・試料ステージ温度：-30～80℃ ・試料サイズ：最大φ6インチ（オプションで8インチ可） |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 機器利用料金（税抜金額） |
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| 利用可能形態 |
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| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 千現地区 材料信頼性実験棟 102号室 |
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