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原子層堆積装置 [AD-230LP]

原子層堆積装置 [AD-230LP]
装置名称 原子層堆積装置 [AD-230LP]
メーカー名 サムコ株式会社
型番 AD-230LP
用途 絶縁膜・パッシベーション膜形成
仕様 成膜方式:Thermal ALD, Plasma ALD
原料:TMA, TDMAT, BDEAS, 他
酸化膜:H2O, O3, O2
窒化膜:N2, NH3
試料サイズ:最大φ8インチ
その他:ロードロック式
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟 102号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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