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高解像度レーザーリソグラフィ装置

高解像度レーザーリソグラフィ装置
装置名称 高解像度レーザーリソグラフィ装置
メーカー名 ハイデルベルグ・インストルメンツ HEIDELBERG INSTRUMENT
型番 DWL66+
用途 ・サブミクロン以上の任意パターン形成
・3次元パターン造形
仕様 ・光源:375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード:ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード:0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ:8インチ角
・その他:グレースケール描画、重ね合わせ描画

【特徴】・高解像度フォトリソグラフィ ・高精細グレースケール描画
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関6,000円/時間
  • 中小企業10,000円/時間
  • 大企業20,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (千現ファウンドリ)
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟102室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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