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共用設備

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置
装置名称 TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置
メーカー名 株式会社日立ハイテク
型番 Ethos NX5000
用途 半導体・セラミックス等のTEM試料作製
仕様 1. FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
2. SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
3. 低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関9,000円/時間
  • 中小企業15,000円/時間
  • 大企業30,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 電子顕微鏡解析ステーション
設置場所 並木地区 無振動特殊実験棟107号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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