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共用設備

SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]

SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
装置名称 SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL]
メーカー名 サムコ株式会社
型番 PD-220NL
用途 ・微細加工(成膜)
・高品質SiO2薄膜形成
仕様 ・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・試料サイズ:最大φ8インチ
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関3,000円/時間
  • 中小企業5,000円/時間
  • 大企業10,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 材料信頼性実験棟102号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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