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共用設備

マスクレス露光装置 [MLA150]

マスクレス露光装置 [MLA150]
装置名称 マスクレス露光装置 [MLA150]
メーカー名 ハイデルベルグ・インストルメンツ
型番 MLA150
用途 半導体デバイスプロセスにおけるリソグラフィ工程
仕様 露光方式:DMD
光源:375nm半導体レーザー
解像度:1um
位置決め精度:0.5um以下
重ね合わせ精度:0.5um以下
最大試料サイズ:8インチ角
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関・スタートアップ企業 6,600円/時間
  • 中小企業 11,000円/時間
  • 大企業  22,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用
問い合わせ先部署 微細加工ユニット
設置場所 千現地区 材料信頼性実験棟1F

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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