電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
![電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]](data/facility_item/1711323677_15.jpg)
| 装置名称 | 電子銃型蒸着装置 [ADS-E810] |
|---|---|
| メーカー名 | アールデック(R-DEC) |
| 型番 | ADS-E810 |
| 用途 | 薄膜形成 Thin Film Deposition |
| 仕様 | 【性能・仕様】 ・蒸着方式：電子銃型 ・ターゲット：Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他 ・到達真空度：10-5 Pa ・ＴＳ間距離：500 mm ・最大試料サイズ：φ8inch ・その他：ロードロック式、水冷式試料ステージ 【特徴】 ・ロードロックによる迅速なプロセス ・最大10種類の材料を積層可能 ・レシピによる多層成膜の自動実行 ・基板冷却機構 ・反射電子トラップ機構 |
| 利用時間単位 | 時間（1h） |
|---|---|
| 機器利用料金（税抜金額） |
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| 利用可能形態 |
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| マテリアル先端リサーチインフラの利用 | ○ |
| 問い合わせ先部署 | 微細加工ユニット |
| 設置場所 | 並木地区 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点棟504室 |
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