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共用設備

FIB-SEM装置 [XVision200DB]

FIB-SEM装置 [XVision200DB]
装置名称 FIB-SEM装置 [XVision200DB]
メーカー名 SII ナノテクノロジー(株)
型番 XVision200DB
用途 ・微細加工(エッチング)
・TEM試料作製,イオン照射による直接加工
仕様 ・イオン源 Ga液体金属
・FIB加速電圧 1-30kV
・電子銃 ZrO/W熱電界放射型
利用時間単位 時間(1h)
機器利用料金(税抜金額)
  • 大学・公的機関9,000円/時間
  • 中小企業15,000円/時間
  • 大企業30,000円/時間
利用可能形態
  • 機器利用:○
  • 技術指導:○
  • 技術代行:○
マテリアル先端リサーチインフラの利用 ×
問い合わせ先部署 ナノテクノロジー融合ステーション (ナノファブリケーション)
設置場所 並木地区 MANA棟 505号室

※予約状況につきましては、お問い合わせください。

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